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[求助] 讨论PVD CVD等涂层处理前景!

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签到天数: 5 天

[LV.2]偶尔看看I

发表于 2008-10-6 13:08:40 | 显示全部楼层 |阅读模式
北京中仪天信科技有限公司
PVD CVD等热处理手段,如果温度低于500°,个人看法:应该是低温热处理的大趋势。

该用户从未签到

发表于 2008-10-9 01:02:24 | 显示全部楼层

好啊

楼主搞错了吧!这两种工艺和传统热处理工艺完全不同,都不算热处理方法吧!
PVD:Physical Vapor Deposition 是指在高真空或低压放电条件下,用物理的方法(加热或高能粒子撞击)是欲涂敷的物质的原子、离子气体化沉积在基体表面而成膜!
CVD:Chemical  Vapour Deposition 是在一定压力下,输入热能或辐射能,使混合气体在工件表面进行一定的化学反应,并形成固态膜层的过程。
个人觉得这两种表面处理方法将来很有前途,不过成本会较高

该用户从未签到

发表于 2008-10-16 21:14:09 | 显示全部楼层
前景很好的。我就是学PVD专业的。航空航天等精密仪器的镀膜就要用到PVD和CVD
PVD是物理气相沉积,CVD是化学气相沉积。都能精确控制镀层或者说薄膜的厚度到纳米级。

该用户从未签到

发表于 2008-10-17 13:32:06 | 显示全部楼层

PVD

PVD Coating 温度在540度左右。

如果热处理后需要做PVD的,回火温度必须得高于540度,即需要高温回火

签到天数: 5 天

[LV.2]偶尔看看I

 楼主| 发表于 2008-10-18 12:36:52 | 显示全部楼层
听说镀膜加工费由1400->60?

签到天数: 1 天

[LV.1]初来乍到

发表于 2008-10-18 14:20:50 | 显示全部楼层
我们采取的镀层设备是英国TEER公司生产的,工艺也是采用英国人的。
是磁场和电场共同对粒子加速后沉积到工件表面的一种工艺,所以要求表面较高,否则结合力会出问题。磁场的电场分布不同又有好多类型。我毕业设计的课题是”偏压对非平衡磁场离子镀的影响“

签到天数: 5 天

[LV.2]偶尔看看I

 楼主| 发表于 2008-10-24 19:33:44 | 显示全部楼层
这种方法属于新的工艺吗?
设备大概要多少RMB?

签到天数: 2339 天

[LV.Master]伴坛终老

发表于 2008-10-25 19:16:43 | 显示全部楼层
刀具和模具的表面处理用得较多。由于价格高,目前只在要求高的刀具和模具上用,今后会多的。

该用户从未签到

发表于 2008-10-25 20:34:27 | 显示全部楼层
能提高刀具寿命3-5倍,我想应该有很大的发展前途,只是目前的成本太高!如果成本降低的话,应运也会更加广泛!

签到天数: 138 天

[LV.7]常住居民III

发表于 2008-11-11 16:27:48 | 显示全部楼层
6#您好:能否再详细地介绍一下这台设备涂层过程中工艺参数是怎样调整的及检测方面应注意哪些问题,主要处理什么工件,处理温度等,谢谢。

[ 本帖最后由 xiulirong 于 2008-11-11 16:36 编辑 ]

签到天数: 202 天

[LV.7]常住居民III

发表于 2008-11-11 23:04:54 | 显示全部楼层
这两种工艺形成的膜应该没有稳定的组织,只是物理粘附吧
没有冶金的味道吧

该用户从未签到

发表于 2008-11-22 21:13:11 | 显示全部楼层
单件成本较高,如果成本能降下来。推广到零部件上,前景可观。

签到天数: 162 天

[LV.7]常住居民III

发表于 2018-7-16 10:05:54 | 显示全部楼层
Jeff 发表于 2008-10-18 14:20
我们采取的镀层设备是英国TEER公司生产的,工艺也是采用英国人的。
是磁场和电场共同对粒子加速后沉积到工 ...

是不是汇景梯尔的那个TEER
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签到天数: 100 天

[LV.6]常住居民II

发表于 2018-7-19 08:49:52 | 显示全部楼层
PVD、CVD都是材料表面处理工程,材料表面改性很有前景的领域,目前广泛应用于刀具、模具以及特殊工程领域,是一个很好的方向
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签到天数: 339 天

[LV.8]以坛为家I

发表于 2020-8-11 16:53:58 | 显示全部楼层
也可以用在半导体工业上。
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